其是一种适用于要求较为苛刻的射频等离子工艺的解决方案

cito Plus提供了无与伦比的脉冲品质，稳定性及功率测量精度，使其不仅对于非半导体工艺，同时对于半导体中的等离子层积及蚀刻工艺来说也是不二的选择。

• 较长的正常运行时间/较低的故障率 – 产能高且使用成本低
• 具有较高的精度，可重复性及稳定性 – 能满足你们的各种工艺要求
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